2025 年 3 月 27 日 - 30 日，2025 年安徽省電子顯微學學術(shù)交流會將在黃山市拉開帷幕！這是一次匯聚行業(yè)精英、共探前沿技術(shù)的契機，復(fù)納科技也將攜前沿技術(shù)與產(chǎn)品參與其中，與大家攜手推動電子顯微學的發(fā)展。

會議時間：2025年3月27日-30日

會議地點：安徽農(nóng)業(yè)大學皖南綜合試驗站

復(fù)納科學儀器（上海）有限公司（簡稱“復(fù)納科技”）深耕儀器行業(yè) 15 年，致力于引進的分析測試科學儀器裝備，為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品、服務(wù)和核心技術(shù)解決方案，賦能科研創(chuàng)新、工業(yè)升級。目前主要提供六大產(chǎn)品：飛納臺式掃描電鏡、Technoorg Linda 制樣設(shè)備離子研磨儀、DENSsolutions 原位透射樣品桿、NEOSCAN 高分辨臺式顯微 CT、Forge Nano 粉末原子層沉積系統(tǒng)和 VSParticle 納米氣溶膠沉積系統(tǒng)以及相關(guān)產(chǎn)品的付費測試服務(wù)。

Part.1 飛納臺式掃描電鏡

荷蘭飛納作為桌面掃描電子顯微鏡，操作簡單，成像速度快且質(zhì)量高，其優(yōu)異的低真空模式可以直接觀察不導(dǎo)電樣品，收到了眾多研究者的青睞。

Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機能夠提供多種測量模式，包括機械性能、相關(guān)性分析、磁性能、電機械性能和電性能等，覆蓋了從亞納米級地形測量到局部彈性、硬度、磁疇成像、壓電疇成像、導(dǎo)電性映射、局部表面電勢映射以及局部電性能等多個領(lǐng)域。

Pharos STEM 作為臺式場發(fā)射 SEM-STEM 電子顯微鏡，為材料領(lǐng)域的研究提供了高效、全面的表征方式。

Phenom SEM 型號推薦

Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機

Phenom Pharos 臺式場發(fā)射掃描電鏡

Phenom XL 大樣品室版

Phenom ProX 電鏡能譜一體機

ParticleX Battery 全自動鋰電清潔系統(tǒng)

Part.2 SEM/TEM 制樣設(shè)備

復(fù)納科技還擁有Technorg Linda 系列離子研磨儀，采用離子束技術(shù)，可對樣品進行快速研磨及表面精細加工和最終拋光。是SEM/TEM 樣品表面處理的有力工具。

臺式離子研磨儀 SMART

臺式離子精修儀 Gentle Mill

臺式離子減薄儀 Unimill

Part.3 DENSsolutions 原位樣品桿

DENS 產(chǎn)品可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激，捕捉 TEM 樣品在真實環(huán)境下的動態(tài)現(xiàn)象。目前提供的五種原位實驗方案：Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate Infinity TEM 原位氣相加熱加電方案、Stream Infinity TEM 原位液相加熱加電方案和 Arctic TEM 原位冷凍熱電方案，為各學科領(lǐng)域在相關(guān)條件下研究各種材料和工藝開辟了可能性。

Wildfire 原位加熱樣品桿

Lightning 原位熱電方案

Climate Infinity 原位氣相加熱加電方樣品桿

Stream Infinity 原位液相加熱加電樣品桿

Arctic TEM 原位冷凍熱電樣品桿

Part.4 NEOSCAN 臺式顯微 CT 

NEOSCAN 臺式顯微 CT 掃描系統(tǒng)對場地要求少、免維護、具備高空間分辨率。能夠真實再現(xiàn)材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)，在材料研究、失效分析、工藝優(yōu)化中已經(jīng)成為不可替代的測試手段。

Part.5 Forge Nano 原子層沉積

ALD 技術(shù)可實現(xiàn)高精度及均勻包覆，能夠有效提升材料性能與使用壽命。Forge Nano 針對粉末類材料比表面積大的特點，采用流化床技術(shù)實現(xiàn)粉末材料的流化，從而保證前驅(qū)體與粉末實現(xiàn)充分的接觸，可實現(xiàn)kg級粉末批量包覆，是工業(yè)生產(chǎn)前理想的研發(fā)工具。

PROMETHEUS 流化床原子層沉積系統(tǒng)

Pandora 多功能原子層沉積系統(tǒng)

Part.6 VSParticle 納米沉積系統(tǒng)

VSP-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)具有性能的無機納米結(jié)構(gòu)材料的打印直寫。印刷涂層的顆粒由 VSP-G1 納米粒子發(fā)生器產(chǎn)生，經(jīng)火花燒蝕產(chǎn)生的氣溶膠顆粒其典型粒徑在 20nm 以下，且不含表面活性劑或任何其他有機添加物質(zhì)。納米粒子生產(chǎn)和印刷沉積的整個過程是自動化的，不需要進行后續(xù)有機成分的熱處理去除。

納米印刷沉積系統(tǒng) VSP-P1

納米粒子發(fā)生器 VSP-G1